歡迎來到深圳市京都玉崎電子有限公司！
13717032088歡迎來到深圳市京都玉崎電子有限公司！
13717032088
產(chǎn)品分類 / PRODUCT
更新時間：2024-11-14 
瀏覽次數(shù)：582
圖1. TFT液晶顯示器的TFT基板側(cè)的制造流程概述曝光設(shè)備主要用于半導(dǎo)體制造現(xiàn)場和液晶顯示器等平板顯示器（FPD）制造現(xiàn)場。在半導(dǎo)體制造工藝中，以硅晶片為基板，形成氧化膜，涂敷光致抗蝕劑（感光材料），并通過光掩模用從曝光裝置發(fā)出的強(qiáng)紫外線照射涂敷表面。允許通過蝕刻等去除不需要的部分。這種使用曝光設(shè)備的方法稱為光刻法。在LCD制造過程中，一般采用玻璃基板，并重復(fù)金屬薄膜沉積、光刻和蝕刻的多個循環(huán)。可以在一個基板上形成像素電極和開關(guān)元件(TFT元件等)，并且可以在另一基板上形成具有光的三基色(紅、綠和藍(lán))的濾色器。通過將兩個基板粘合在一起并在其間放置液晶材料，就完成了用于 LCD 顯示器的面板。選擇曝光設(shè)備時，需要在購買前與設(shè)備制造商充分討論曝光所用光源的類型和精度、載物臺的精度等，因為其價格非常昂貴。 
上一篇：曝光設(shè)備原理
拿起手機(jī)掃一掃
地址：龍華新區(qū)梅龍大道906號創(chuàng)業(yè)樓
郵箱：ylx@tamasaki.com
聯(lián)系人：袁蘭香Copyright © 2025深圳市京都玉崎電子有限公司 All Rights Reserved 備案號：粵ICP備2022020191號
技術(shù)支持：化工儀器網(wǎng) 管理登錄 sitemap.xml
13717032088
拿起手機(jī)掃一掃
返回頂部點
擊
隱
藏
我的位置：